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En 2000, l'université avait déposé cette technologie de lithographie à double-modèles pour les processeurs. Elle permet de créer des composants plus petits au sein des puces électroniques, et donc d'en mettre plus dans un seul processeur, pour améliorer son efficacité et ses performances.
Ce sont plusieurs chercheurs qui sont à l'origine de la technologie de lithographie à double-modèles. En juin dernier, une plainte avait déjà été déposée par l'université pour défendre le brevet 6 042 998 face à TSMC, le concurrent taïwanais d'Intel, et Samsung, devant la commission du commerce international des Etats-Unis (ITC).
Un accord avait été trouvé avec les deux entreprises asiatiques, ce qui laisse penser que l'université du Nouveau-Mexique pourrait être tentée de régler le cas Intel à l'amiable. Elle précise d'ailleurs avoir contacté le fondeur avant de porter plainte. « L'université rechigne à passer par les tribunaux pour faire reconnaître ses droits sur son brevet, mais nous n'avons pas d'autre recours, » explique Lisa Kuuttila, présidente du service de gestion des licences de l'université. « Nous avons le devoir de protéger la propriété intellectuelle de nos inventeurs et de l'université. »
Le procès pourrait faire changer d'avis le fondeur. Intel a pour l'instant refusé de faire le moindre commentaire, se bornant à assurer qu'il était en train d'étudier la plainte.
