L'ETL Talend Open Studio 3.0 s'ouvre à SAP

21 octobre 2008 à 11h19
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Talend, jeune éditeur français basé à Suresnes et à Los Altos, Californie, propose en téléchargement la version 3.0 d'Open Studio, logiciel open source d'intégration de données (ETL), sous Windows, Unix ou Linux.

Proposée sous licence publique générale (GPL), la solution Open Studio utilise le langage Java (Java/Eclipse). Elle est équipée de plus de 400 connecteurs qui permettent d'extraire et de synchroniser des données de nombreuses applications d'entreprise (Microsoft, Sage, Vertica, Jaspersoft...) En outre, Open Studio permet de générer des graphiques PNG, d'exécuter des scripts Groovy et de lire ou d'écrire dans les sockets des systèmes d'exploitation. Les bases supportées : IBM DB2, Microsoft SQL Server, Oracle Database, Ingres, MySQL, PostgreSQL et Sybase ASE.

De plus, la nouvelle mouture de logiciel inclut le support natif des progiciels SAP. Pour bénéficier de la puissance des bases de données hautes performances, un mode avancé d'ETL (extraction, transformation, chargement de données) est également proposé. Par ailleurs, l'intégration et la modification de données « en temps réel » (fonction Change Data Capture) ont été optimisées, et l'analyse de dépendances (impact d'une modification sur les processus d'intégration) a été ajoutée.

« Nos clients ont besoin d'une solution souple et performante, favorisant l'interopérabilité d'un large éventail d'applications et de systèmes », souligne dans un communiqué Fabrice Bonan, co-fondateur et directeur des opérations de Talend. Talend a l'ambition, ajoute-t-il « de supporter toutes les technologies hétérogènes qui forment la base des systèmes d'information des entreprises ».

Open Studio 3.0 constitue une alternative aux solutions propriétaires d'intégration de données (Informatica, Oracle Sunopsis...) Depuis son lancement, à l'automne 2006, Talend Open Studio aurait été téléchargée plus de 500.000 fois. Parallèlement à ses solutions professionnelles, Talend propose support technique, formation et expertise.
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