Cela fait plus d'un an que Samsung a reçu les meilleures machines lithographiques d'ASML. Et pourtant, le géant sud-coréen va attendre plusieurs années avant de commencer à les utiliser.
L'heure est semble-t-il à la décélaration du côté des plus grands fondeurs de semi-conducteurs au monde. On apprenait ainsi il y a quelques mois que TSMC programmait finalement son prochain procédé de gravure à 1,6 nm à 2027. Du côté de Samsung, c'est le procédé à 1,4 nm qui a été décalé de deux ans, à 2029. Et aujourd'hui, on découvre que le meilleur matériel d'ASML ne commencera à être pleinement utilisé qu'à partir de la prochaine décennie chez le Sud-Coréen.
Samsung repousse l'utilisation des machines ASML High-NA EUV à 2030, pour ses puces gravées à 1 nm
Au mois de mars 2025, Samsung accusait réception de sa première machine lithographique pilote high-NA EUV (après Intel et TSMC) d'ASML. À la fin de même année, elle recevait la première machine commerciale de ce modèle, qui coûte entrée 350 à 400 millions de dollars l'unité. Un bijou de technologie, le sommet du savoir-faire d'ASML… qui deviendra pleinement utile à partir de 2030 seulement !
En effet, le vice-président de la technologie (Master) de Samsung Electronics, Park Chang-Min, a présenté la nouvelle roadmap du groupe lors de la conférence Next-Generation Lithography + Patterning Conference (NGL 2026). À cette occasion, il a indiqué que Samsung reportait l'utilisation de la machine high-NA EUV, qui sera consacrée au procédé de gravure en 1 nm, dont la production de masse est programmée pour 2030.
Samsung fait finalement le même constat que son concurrent TSMC
« Nous souhaitions mettre en œuvre la technologie high-NA EUV pour la production en série à des nœuds tels que 2 nm et 1,4 nm, mais cette technologie nécessite encore des améliorations » a-t-il ainsi indiqué.
« Nous pensons que le high-NA EUV deviendra indispensable à partir de [la gravure à 1,0 nm] et des niveaux inférieurs, et nous menons actuellement des travaux de développement conjoints avec divers partenaires » a par ailleurs ajouté le responsable de chez Samsung.
Le groupe sud-coréen rejoint ici son concurrent TSMC. Le fondeur taïwanais avait en effet déjà expliqué l'an dernier avoir amélioré la technologie existante de façon à obtenir des résultats très satisfaisants pour les gravures à 1,6 et 1,4 nm. Le leader mondial du secteur ne souhaite utiliser ces nouveaux équipements que lorsqu'ils apporteront un plus indéniable, ce qui ne devrait pas avoir lieu avant 2030 au moins.
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